當前位置:首頁 > 技術文章
在科研和工業檢測領域,電子顯微鏡作為探索微觀世界的得力工具,其性能的穩定性和精確度至關重要。然而,在實際應用中,電子顯微鏡往往會受到各種振動干擾,尤其是低頻共振頻率的干擾,這會嚴重影響其成像質量和測量精度。為了有效應對這一問題,電鏡防振臺應...
接觸式光刻機是一種用于信息科學與系統科學、能源科學技術、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器。主要構成:主要由對準工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統、LED曝光頭、PLC電控系統、氣動系統、真空管路系統、直聯式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。接觸式光刻機的使用原理:其實在我國對于接觸式光刻機,曝光時掩模壓在光刻膠的襯底晶片上,其主要優點是可以使用價格較低的設備制造出較小的特征尺寸。我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經達到了小于0.1gm的特征尺寸,常用的光源分辨率...
硬化涂層膜厚儀是一款快速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺計算機控制的XY工作臺,使其快速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特性圖。工作原理:本產品采用電磁感應法測量涂層的厚度。位于部件表面的探頭產生一個閉合的磁回路,隨著探頭與鐵磁性材料間的距離的改變,該磁回路將不同程度的改變,引起磁阻及探頭線圈電感的變化。利用這一原理可以精確地測量探頭與鐵磁性材料間的距離,即涂層厚度。硬化涂層膜厚儀的符合...
去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程,在電子束曝光,紫外曝光等微納米加工工藝后,都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題,將直接影響后續工藝的順利完成。等離子去膠性能出色的組件和軟件,可對工藝參數進行精確控制。它的工藝監測和數據采集軟件可實現嚴格的質量控制。該技術已經成功的應用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領域。產品具有去膠快速*;對樣片無損傷;操作簡單安全;設計緊湊美觀;產品性價比高等...
紅外激光測厚儀是用來測量材料及物體厚度的儀表,它常用來連續或抽樣測量鋼板、鋼帶、薄膜、紙張、金屬箔片等材料等產品的厚度。目前國內廠家普遍采用人工測量和控制的方法來管控板材的厚度,這存在著測量精度差的、成材率低等弊端,因此采用專業的測厚儀來能有效地改善測控環境,提高生產效率、提高成材率和產品質量。目前本產品主要應用于鋰電池正、負極涂布、鋰電池正、負極輥壓的厚度測量,以實際情況為例,使用時,可放置激光測厚儀于銀壓后和收卷前,在具有極片張力波動和銀壓機振動的復雜工況下測量設備使用浮...
電容式位移傳感器具有一般非接觸式儀器所共有的無磨擦、無損磨和無惰性特點外,還具有信噪比大,靈敏度高,零漂小,頻響寬,非線性小,精度穩定性好,抗電磁干擾能力強和使用操作方便等優點。在國內研究所,高等院校、工廠和軍工部門得到廣泛應用,成為科研、教學和生產中一種*的測試儀器。應用范圍:主要用于解決下述各種測量問題:壓電微位移、振動臺,電子顯微鏡微調,天文望遠鏡鏡片微調,精密微位移測量等。性能:電容式位移傳感器的電容器極板多為金屬材料,極板間襯物多為無機材料,如空氣、玻璃、陶瓷、石英...